Pokryty tantalum cel

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. znajduje się w strefie rozwoju zaawansowanych technologii w Baoji City w prowincji Shaanxi. Firma produkuje głównie konwencjonalne przetworzone profile, takie jak płytki, paski, folii, pręty, przewody i rury wykonane z tantalum, niobium, hafnium, tantalum stopu tungsten, cele, fragmenty, mnogą, mnogą, mnogą, pionowo, w piorunach, pionowo, w pioramie naczyniowej. Elementy grzewcze, ciała pieca (piece grzewcze, piece wyżarzające) i wyposażenie odporne na korozję.

 

 

Proces przygotowania celów powlekanych tantalum obejmuje następujące główne kroki

01.

Proces przygotowania

Przygotowanie surowca: proszek o wysokiej czystości proszku (czystość większa lub równa 99,95%) jest stopiony przez topnienie wiązki elektronów (EBM) lub utworzone przez metalurgię proszku. Metoda EBM może usunąć zanieczyszczenia o niskiej temperaturze wrzenia, zmniejszyć zawartość tlenu do poniżej 50 ppm i udoskonalić wielkość ziarna do 20-50 μm.


Przetwarzanie plastiku: w tym kucie, toczenie i obróbka cieplna. Kucie wiele kierunków jest przeprowadzane w stopniu 1100-1250, a do walki jest używana technologia ciepłego toczenia (600-800). Obróbka cieplna odbywa się poprzez wyżarzanie próżniowe w celu wyeliminowania naprężenia przetwarzania i uzyskania jednolitej fazy A.

02.

Proces przygotowania

Precyzyjna obróbka: pusta jest obrobiona do docelowego rozmiar<0.4 μ m and a flatness error ≤ 0.02mm/100mm.


Technologia wiązania: Spawanie dyfuzyjne lub lutowanie służy do wiązania celu tantalu z miedzianą płytką podkładową, zapewniając wydajność rozpraszania ciepła podczas procesu rozpylania

Cele powlekane tantalum mają następujące cechy:

Wysoka temperatura topnienia i doskonała odporność na korozję: Cel powlekanych tantalu mają temperaturę topnienia do 3017 stopni C i temperaturę wrzenia 5458 stopnia C, wykazując doskonałą odporność na korozję i nie reagując z Aqua Regia w temperaturze pokojowej.
Stabilność w wysokiej temperaturze: możliwość utrzymania wytrzymałości ponad 400 MPa przy 500 stopni C, odpowiednich do rozpylania o dużej mocy.
Energia powierzchniowa o niskiej adsorpcji gazu: Energia powierzchniowa jest tak niska jak 0. 8 J/m ², skutecznie tłumiąc adsorpcję gazu AR i poprawiając szybkość osadzania folii.
Excellent film properties: When the thickness of the prepared TaN barrier layer is ≤ 5nm, it can still prevent Cu diffusion, and the critical current density is>1 × 10⁻⁶ A/cm².

Główne obszary zastosowania celów powlekanych tantalum obejmują:

Produkcja półprzewodnikowa: Tantalowe cele powlekane są powszechnie stosowane w warstwach barierowych międzykononekcyjnych w produkcji zintegrowanych obwodów, szczególnie w układach poniżej węzła 10 nm. Struktura dwuwarstwowa TA/TAN może wydłużyć czas awarii elektromigracji do 10 ⁷ godzin.
Powłoka optyczna: Tantalowe cele mogą być używane do produkcji cienkich warstw o ​​określonych właściwościach optycznych, szeroko stosowanych w urządzeniach optycznych, wyświetlaczach i czujnikach.
Urządzenia medyczne: Ze względu na ich doskonałą biokompatybilność cele powlekane tantalum są wykorzystywane do produkcji implantów ortopedycznych, takich jak płytki kostne i stawowe protez, zmniejszając reakcje odrzucania przez ludzi.
Wysokiej klasy produkcja: W wysokiej klasy produkcji, takiej jak powłoka rozpylająca i powłoka optyczna, popyt na cele powlekane Tantalum wzrosło, a wielkość rynku globalnego osiągnie 3,27 miliarda juanów do 2026 r.

W przyszłości, wraz z ciągłą optymalizacją procesów powlekania, materiały docelowe Tantalum jeszcze bardziej rozszerzy granice zastosowania w nowej produkcji energii i precyzyjnej, zapewniając bardziej niezawodne materialne wsparcie dla rozwoju technologicznego.

Popularne Tagi: Target powlekany tantalum, chińscy producenci docelowej tantalum, dostawcy, fabryka, Tantalum do zbiorników chemicznych, Łańcuch dostaw surowców tantalum